特許

J-GLOBAL ID：200903065183876929

パラジウム粉末及びその製造方法

発明者： 岩田 泰夫 ,  高橋 勝美
出願人/特許権者： エヌ・イーケムキヤツト株式会社
代理人 (1件)： 小田島 平吉 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-044327
公開番号（公開出願番号）：特開平5-001301
出願日： 1991年02月16日
公開日（公表日）： 1993年01月08日
要約：

【要約】[目的] エレクトロニクス用の電極、回路等を製作するための焼成用ペーストとして優れた特性を有するパラジウム粉末を得る。[構成] SEM観察による一次粒径の分布が0.1〜1μmの範囲の中にあり、レーザー散乱法による粒度分布の幅が0.1〜1.5μmの範囲の中にあり、空気中での焼成時に室温〜1000°Cの昇温過程における重量変化が4重量%以内である球状パラジウム粉末。パラジウムアンモニウム錯体溶液のpHを7〜11とし、該溶液の温度を50°C以上に維持しつつ界面活性剤の存在下で次亜リン酸ナトリウム溶液を用いて還元することからなる上記球状パラジウム粉末の製造方法。

請求項（抜粋）：

SEM観察による一次粒径の分布が0.1〜1μmの範囲の中にあり、レーザー散乱法による粒度分布の幅が0.1〜1.5μmの範囲の中にある球状パラジウム粉末において、空気中での焼成時に室温〜1000°Cまでの昇温過程における重量変化が4重量%以内であることを特徴とする球状パラジウム粉末。

IPC (3件)：

B22F 1/00 ,  B22F 9/24 ,  C22C 5/04

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭55-107701
  
• 特開平1-225710
  
• 特開昭63-125605