特許

J-GLOBAL ID：200903065203246145

皮膜特性と磁気特性に優れた一方向性電磁鋼板及びその製造方法並びにその製造法に用いる脱炭焼鈍設備

発明者： 小菅 健司 ,  持永 季志雄 ,  難波 英一
出願人/特許権者： 新日本製鐵株式会社
代理人 (1件)： 田村 弘明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-221826
公開番号（公開出願番号）：特開平11-061356
出願日： 1997年08月18日
公開日（公表日）： 1999年03月05日
要約：

【要約】【課題】 皮膜特性が優れかつ鉄損特性が優れた一方向性電磁鋼板及びその製造方法並びにその製造方法で用いる脱炭焼鈍設備を提供する。【解決手段】 重量%で、C:0.005%以下、Si:2.0〜7.0%を含み、残部がFe及び不可避的不純物からなり、表面にフォルステライトを主体とする酸化皮膜と、更にその表面に絶縁皮膜が形成された一方向性電磁鋼板であって、前記酸化皮膜の皮膜量が片面当り1〜4g/m2 であり、かつ前記酸化皮膜表面から行うグロー放電発光分析によって得られるSiのピーク強度がAlのピーク強度の 1/2以上であるとともに、前記酸化皮膜表面からSiのピーク位置までの深さが酸化膜表面からAlのピーク位置までの深さの1/10以内であって、20mm径曲げにより皮膜剥離が発生しない率y(%)及び鉄損特性W(W/kg)が下記式を満たすことを特徴とする。y(%)≧-122.45t+112.55(但し、t:板厚mm)W(W/kg)≦2.37t+0.280(但し、t:板厚mm)

請求項（抜粋）：

重量%で、C :0.005%以下、Si:2.0〜7.0%を含み、残部がFe及び不可避的不純物からなり、表面にフォルステライトを主体とする酸化皮膜が形成されていて、さらに前記酸化皮膜の表面には絶縁皮膜が形成された一方向性電磁鋼板であって、前記酸化皮膜の皮膜量が片面当り1〜4g/m2 であり、かつ前記酸化皮膜表面から行うグロー放電発光分析(GDS分析)によって得られるSiのピーク強度がAlのピーク強度の1/2以上であるとともに、前記酸化皮膜表面からSiのピーク位置までの深さが酸化膜表面からAlのピーク位置までの深さの1/10以内であって、20mm径曲げにより皮膜剥離が発生しない率y(%)が下記(1)式を満たし、鉄損特性W(W/kg)が下記(2)式を満たすことを特徴とする優れた皮膜特性と磁気特性を有する一方向性電磁鋼板。 y(%)≧-122.45t+112.55(但し、t:板厚mm)・・(1) W(W/kg)≦2.37t+0.280(但し、t:板厚mm)・・・・・(2)

IPC (5件)：

C22C 38/00 303 ,  C21D 8/12 ,  C21D 9/46 501 ,  C22C 38/02 ,  H01F 1/16

FI (5件)：

C22C 38/00 303 U ,  C21D 8/12 B ,  C21D 9/46 501 A ,  C22C 38/02 ,  H01F 1/16 B