特許
J-GLOBAL ID：200903065210144315
位置合せ装置、および該位置合せ装置を有する露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 正年 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-339299
公開番号（公開出願番号）：特開平5-152189
出願日： 1991年11月29日
公開日（公表日）： 1993年06月18日
要約：
【要約】【目的】 特開昭61-44429号公報の「位置合せ方法」をベ-スにしてその位置合せ精度をさらに向上させる。この方法では、基板上の複数の領域の中からいくつかをサンプリング領域として選択して座標位置を実測し、該実測値と領域の「設計上の配列座標位置」とに基いて全部の領域の座標位置を算出し、算出された座標位置に可動ステ-ジを位置決めする。算出された座標位置をより実際の領域の配列状態を反映したものとし、目標の停止位置に対する実際の可動ステ-ジの停止位置のずれを極小化して位置決め精度を高める。【構成】 「設計上の配列座標位置」に対して実際の配列座標位置が持つ規則的で再現性ある配置誤差を共有するグル-プの中からのみサンプリング領域を選択する選定手段と、算出された座標位置を可動ステ-ジの予想される停止誤差量を逆バイアスして補正する補正手段とを設ける。位置合せ誤差の中から規則的で再現性のある偏差量を抽出し、この偏差量の規則性を最後まで崩さないように座標位置を算出し、適当な段階で偏差量を差引いてやる。
請求項（抜粋）：
複数の領域が2次元に規則的に配列された基板を保持して該2次元の配列方向のそれぞれに沿って移動可能な可動ステ-ジと、該可動ステ-ジの位置座標を計測する座標計測手段と、前記可動ステ-ジを移動させることによって、前記基板上の特定のいくつかの領域の座標位置を前記座標計測手段と協働して実測する実測手段と、該実測された特定の領域の座標位置と前記複数の領域の設計上の配列座標位置とに基いて、前記複数の領域の座標位置と前記複数の領域のそれぞれの実際の座標位置を統計的な演算により算出する演算手段と、該算出された実際の座標位置と前記座標計測手段の計測位置とに基いて前記可動ステ-ジを位置決めするステ-ジ制御手段とを備え、前記複数の領域のうち任意の1つを所定点に位置合せする装置において、前記基板上で所定の配列方向に直線状に並んだ複数の領域を1つの組としたとき、該組の複数間での相対的な配置誤差量を予め記憶する記憶手段と、前記演算手段によって算出された任意の1つの領域に関する実際の座標位置を前記記憶手段に記憶された配置誤差量に応じて補正した位置を、前記任意の1つの領域と前記所定点とを位置合せするための前記可動ステ-ジの位置決め目標位置として前記ステ-ジ制御手段へ出力する補正手段とを備えたことを特徴とする位置合せ装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 9/00
, H01L 21/68
