ArF用化学増幅系ネガ型レジスト

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：菅野中
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-282191
公開番号（公開出願番号）：特開平11-119433
出願日： 1997年10月15日
公開日（公表日）： 1999年04月30日
要約：

【要約】【課題】光近接効果に起因する孤立ラインと密集パターンのレジスト寸法差を低減させる。【解決手段】少なくとも脂環式メタクリレート樹脂と、光酸発生剤と、溶剤とからなるArF用化学増幅系ネガ型レジストであって、メラミン系架橋剤を含んでいる。このネガ型レジストを用いることにより、下地基板からの反射光によるレジスト形状の劣化が抑えられ、ウェハー201上には矩形のレジストパターン202が得られる。

請求項（抜粋）：

少なくとも脂環式メタクリレート樹脂と、光酸発生剤と、溶剤とから成るArF用化学増幅系ネガ型レジストであって、架橋剤を含有し、架橋剤は、メラミン系架橋剤であることを特徴とするArF用化学増幅系ネガ型レジスト。

IPC (2件)：

G03F 7/038 601 , H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/038 601 , H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (8件)

感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-337093 出願人：日本合成ゴム株式会社
感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-039420 出願人：日本合成ゴム株式会社
感光性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-221230 出願人：株式会社東芝

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