原盤露光方法及びその装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-052453
公開番号（公開出願番号）：特開2002-260294
出願日： 2001年02月27日
公開日（公表日）： 2002年09月13日
要約：

【要約】【課題】原盤内に形成された感光剤におけるPEDの差をできるだけ少なくして、例えば化学増幅型レジスト特有のPEDによる化学反応不具合を小さくすることが可能となる原盤露光方法及びその装置を提供することにある。【解決手段】原盤上に配置された感光剤を露光しながら随時感光剤用の現像液、リンス水を噴霧し現像処理を行う現像装置を設ける。

請求項（抜粋）：

原盤の面を水平面と交差する方向に向けた状態で、露光用レーザ光を、対物レンズを通して原盤上に形成された感光剤の所定の部分に照射して該部分を露光する原盤露光工程と、原盤の面を水平面と交差する方向に向けた状態で、前記原盤露光工程において露光された感光剤の部分に、現像液及びリンス水を噴霧して現像処理を行う原盤現像処理工程とを有することを特徴とする原盤露光方法。

IPC (3件)：

G11B 7/26 501 , G03F 7/20 501 , H01L 21/027

FI (4件)：

G11B 7/26 501 , G03F 7/20 501 , H01L 21/30 529 , H01L 21/30 569 C

Fターム (18件)：

2H097AB07 , 2H097BA06 , 2H097CA17 , 2H097JA03 , 2H097LA20 , 5D121AA02 , 5D121BB28 , 5D121BB30 , 5D121BB31 , 5D121BB38 , 5D121BB40 , 5D121GG18 , 5F046AA17 , 5F046BA07 , 5F046LA04 , 5F046LA08 , 5F046LA14 , 5F046LA18

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