特許

J-GLOBAL ID：200903065216533143

欠陥除去装置、欠陥除去方法、カラーフィルタ製造方法、カラーフィルタ、液晶素子

発明者： 笠原 孝宏
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 井上 誠一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-340024
公開番号（公開出願番号）：特開2007-147837
出願日： 2005年11月25日
公開日（公表日）： 2007年06月14日
要約：

【課題】広範囲に渡る欠陥領域を迅速に除去すると共に、欠陥除去に係る品質低下を防止することを可能とする欠陥除去装置等を提供する。【解決手段】欠陥除去装置1は、Z方向位置決め機構17を制御し、ノズル9と欠陥領域55との間隔を調整する。欠陥除去装置1は、X方向位置決め機構15、Y方向位置決め機構16、θ方向位置決め機構18を制御し、基板3と水柱レーザ照射装置7との相対的位置決めを行う。欠陥除去装置1は、欠陥領域55内の照射点57の位置に水柱レーザ照射装置7のノズル9を移動させる。欠陥除去装置1は、ノズル9から欠陥領域55の着色剤27に向けて水を連続噴射して水柱31を形成する。欠陥除去装置1は、水柱31中にレーザ光32を集光して水柱レーザ33として欠陥領域55の着色剤27に照射し、当該着色剤27を溶解流出させて除去する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

塗布剤が塗布された基板の欠陥を除去する欠陥除去装置であって、 レーザ光を発生するレーザ光発生装置と、 液体を供給する液体供給装置と、 前記液体を噴射する噴射ノズルと、を具備し、 前記塗布剤の硬化後に、前記噴射ノズルから欠陥個所の塗布剤に向けて前記液体を連続噴射して液体柱を形成し、前記液体柱を導光管として前記液体柱中にレーザ光を照射し、前記欠陥個所の塗布剤を除去することを特徴とする欠陥除去装置。

IPC (5件)：

G02B 5/20 ,  G02F 1/13 ,  G02F 1/133 ,  B23K 26/02 ,  B23K 26/14

FI (5件)：

G02B5/20 101 ,  G02F1/13 101 ,  G02F1/1335 505 ,  B23K26/02 A ,  B23K26/14

Fターム (26件)：

2H048BA02 ,  2H048BA11 ,  2H048BA64 ,  2H048BB02 ,  2H048BB42 ,  2H088FA15 ,  2H088FA30 ,  2H088HA12 ,  2H088MA20 ,  2H091FA02Y ,  2H091FC01 ,  2H091FC14 ,  2H091FC29 ,  2H091LA12 ,  2H091LA30 ,  4E068AH00 ,  4E068CA08 ,  4E068CA14 ,  4E068CC02 ,  4E068CH03 ,  4E068CH05 ,  4E068CH07 ,  4E068CH08 ,  4E068CJ07 ,  4E068DA09 ,  4E068DB11

引用特許：

出願人引用 (2件)

• パターン形成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-172618   出願人：大日本印刷株式会社
• カラーフィルタ基板の形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-070278   出願人：株式会社東芝