特許
J-GLOBAL ID：200903065216624734
ガス分離体及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡邉 一平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-073449
公開番号（公開出願番号）：特開平6-277472
出願日： 1993年03月31日
公開日（公表日）： 1994年10月04日
要約：
【要約】【目的】 原料ガスが精製ガスに漏洩することがないガス分離体の提供。【構成】 ガス分離能を有する金属が多孔質基体の表面に開いている小孔の内部を充填して閉塞するガス分離体。多孔質基体を、多孔質基体の両片面に圧力差を設けて、活性化金属を含有する溶液に浸漬させる活性化工程と、化学メッキによりガス分離能を有する金属が多孔質基体の表面に開いている小孔の内部を充填して閉塞する化学メッキ工程とを有するガス分離体の製造方法。
請求項（抜粋）：
多孔質基体と、ガス分離能を有する金属とを有するガス分離体であって、当該ガス分離能を有する金属が当該多孔質基体の表面に開いている小孔の内部を充填して閉塞することを特徴とするガス分離体。
IPC (2件)：
B01D 71/02 500
, C01B 3/56
