特許

J-GLOBAL ID：200903065216749855

光導波路の形成方法

発明者： 小谷野 武 ,  前野 仁典 ,  見田 充郎 ,  海部 勝晶
出願人/特許権者： 沖電気工業株式会社
代理人 (1件)： 大垣 孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-266423
公開番号（公開出願番号）：特開2000-098163
出願日： 1998年09月21日
公開日（公表日）： 2000年04月07日
要約：

【要約】【課題】 安価に、かつ容易に高分子(ポリマー)の光導波路を形成する【解決手段】 カルボキシル基を有する高分子の第1の材料を、光導波路用基材17として成形する工程と、この光導波路用基材の表面から内部に向かって、カルボキシル基と反応し、この反応部分の屈折率を基材の屈折率より低下させる第2の材料を拡散させる工程とを含んでいる。

請求項（抜粋）：

カルボキシル基を有する高分子の第1の材料を、光導波路用基材として成形する工程と、前記基材の表面から内部に向かって、前記カルボキシル基と反応し、該反応部分の屈折率を前記基材の屈折率より低下させる第2の材料を拡散させる工程とを含むことを特徴とする光導波路の形成方法。

IPC (2件)：

G02B 6/13 ,  G02B 6/12

FI (2件)：

G02B 6/12 M ,  G02B 6/12 N

Fターム (11件)：

2H047KA04 ,  2H047PA01 ,  2H047PA02 ,  2H047PA12 ,  2H047PA15 ,  2H047PA17 ,  2H047PA24 ,  2H047PA28 ,  2H047QA05 ,  2H047TA43 ,  2H047TA44