乾式化学機械研磨方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-299105
公開番号（公開出願番号）：特開2002-103207
出願日： 2000年09月27日
公開日（公表日）： 2002年04月09日
要約：

【要約】【課題】効率よくエッチングを行うことができる乾式化学機械研磨方法を提供すること。【解決手段】プラズマ源からプラズマ106を供給しながら、試料台114に保持された被研磨試料107表面を研磨パッド119と接触させ、被研磨試料107と研磨工具119の相対的な位置を移動させて研磨し、被研磨試料表面を平坦化する方法であって、上記研磨のときに、例えば、被研磨試料107の径を研磨工具119の径より大きくして、被研磨試料表面の少なくとも一部が、プラズマ106の雰囲気に曝される状態におかれるようにした乾式化学機械研磨方法。

請求項（抜粋）：

プラズマ源からプラズマを供給しながら、試料台に保持された被研磨試料表面を研磨工具と接触させ、上記被研磨試料と上記研磨工具の相対的な位置を移動させて研磨し、上記被研磨試料表面を平坦化する乾式化学機械研磨方法において、上記研磨のときに、上記被研磨試料表面の少なくとも一部が、上記プラズマ雰囲気に曝される状態におかれることを特徴とする乾式化学機械研磨方法。

IPC (3件)：

B24B 37/00 , H01L 21/304 621 , H01L 21/304 622

FI (3件)：

B24B 37/00 Z , H01L 21/304 621 Z , H01L 21/304 622 S

Fターム (7件)：

3C058AA07 , 3C058AA11 , 3C058AA16 , 3C058AB04 , 3C058AC01 , 3C058DA12 , 3C058DA17

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