特許
J-GLOBAL ID:200903065251553858
ポリアクリロニトリル系不炎化体の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
前田 純博
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-182972
公開番号(公開出願番号):特開2002-003628
出願日: 2000年06月19日
公開日(公表日): 2002年01月09日
要約:
【要約】【課題】 本発明の目的は、効率的にアクリロニトリル樹脂の不炎化体を製造する方法を提供することにある。【解決手段】 ポリアクリロニトリル樹脂をヨウ素ガスと接触させることを特徴とするポリアクリルニトリル系不炎化体の製造方法。
請求項(抜粋):
ポリアクリロニトリル樹脂をヨウ素ガスと接触させることを特徴とするポリアクリルニトリル系不炎化体の製造方法。
IPC (5件):
C08J 7/00 CEY
, D01F 9/22
, D06M 11/09
, C08L 33:20
, D06M101:28
FI (5件):
C08J 7/00 CEY Z
, D01F 9/22
, C08L 33:20
, D06M101:28
, D06M 11/00 Z
Fターム (15件):
4F073AA12
, 4F073BA18
, 4F073BB01
, 4F073DA02
, 4F073GA03
, 4L031AA17
, 4L031AB01
, 4L031BA07
, 4L031CA08
, 4L031DA16
, 4L037CS02
, 4L037FA01
, 4L037PA38
, 4L037PA67
, 4L037PS02
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