水処理方法及び水処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：雨笠敬
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-191733
公開番号（公開出願番号）：特開2002-001337
出願日： 2000年06月26日
公開日（公表日）： 2002年01月08日
要約：

【要約】【課題】比較的少ないエネルギー消費で電極表面にオゾンを発生させ、被処理水の殺菌・浄化を行うことができる水処理方法を提供する。【解決手段】水処理方法は、一対の電極6、7を被処理水中に浸漬し、一方の電極6に負電位を印加し、他方の電極7に正電位を印加することにより、一方の電極6表面に修飾部分を形成する第1の工程と、この第1の工程の終了後、一方の電極6に正電位を印加し、他方の電極7に負電位を印加することにより、一方の電極6表面でオゾンを発生させながら修飾部分を溶出させ、他方の電極7表面に修飾部分を形成する第2の工程とを繰り返し実行する。

請求項（抜粋）：

一対の電極を被処理水中に浸漬し、一方の前記電極に負電位を印加し、他方の前記電極に正電位を印加することにより、前記一方の電極表面に修飾部分を形成する第1の工程と、この第1の工程の終了後、前記一方の電極に正電位を印加し、前記他方の電極に負電位を印加することにより、前記一方の電極表面でオゾンを発生させながら修飾部分を溶出させ、前記他方の電極表面に修飾部分を形成する第2の工程とを繰り返し実行することを特徴とする水処理方法。

IPC (10件)：

C02F 1/46 , C02F 1/50 510 , C02F 1/50 520 , C02F 1/50 , C02F 1/50 531 , C02F 1/50 540 , C02F 1/50 550 , C02F 1/50 560 , C02F 1/76 , C02F 1/78

FI (13件)：

C02F 1/46 Z , C02F 1/50 510 A , C02F 1/50 520 B , C02F 1/50 520 P , C02F 1/50 531 M , C02F 1/50 531 R , C02F 1/50 531 Z , C02F 1/50 540 B , C02F 1/50 550 D , C02F 1/50 550 L , C02F 1/50 560 F , C02F 1/76 A , C02F 1/78

Fターム (26件)：

4D050AA04 , 4D050AA12 , 4D050AB06 , 4D050BB01 , 4D050BB02 , 4D050BB04 , 4D050BD02 , 4D050BD04 , 4D050BD08 , 4D050CA10 , 4D050CA12 , 4D061DA03 , 4D061DA08 , 4D061DB03 , 4D061DB09 , 4D061DB10 , 4D061EA02 , 4D061EB05 , 4D061EB07 , 4D061EB14 , 4D061EB17 , 4D061EB19 , 4D061EB30 , 4D061EB31 , 4D061EB39 , 4D061GC12

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