特許

J-GLOBAL ID：200903065280007528

高分子膜の光学的異方性発現方法、リオトロピック液晶の配向方法、配向色素膜、及び、配向色素膜の製造方法

発明者： 市村 國宏
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 松山 圭佑 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-028993
公開番号（公開出願番号）：特開2000-226415
出願日： 1999年02月05日
公開日（公表日）： 2000年08月15日
要約：

【要約】【課題】 光反応性高分子膜を、光再配向現象を利用することなく、その光学的異方性を発現させ、且つこれを利用してリオトロピック液晶を配向させるとともに、配向色素膜を形成する。【解決手段】 側鎖あるいは主鎖に光反応基を有する光反応性高分子膜に直線偏光を照射することにより、その光反応性高分子のうち、直線偏光の偏光軸に平行な遷移モーメントを持つ光反応性高分子に選択的に化学構造変化を生起させる。このとき、直線偏光照射量は、偏光軸に平行なモニタ直線偏光及び垂直なモニタ直線偏光の吸光度の比である2色比がほぼ極大値となるように設定する。

請求項（抜粋）：

側鎖あるいは主鎖に光反応基を有する光反応性高分子膜に直線偏光を照射することにより、その光反応性高分子のうち、前記直線偏光の偏光軸に平行な遷移モ-メントを持つ光反応性高分子に選択的に化学構造変化を生起させる工程を含み、この直線偏光照射時の前記光反応性高分子への入射光子量を、該光反応性高分子における、前記偏光軸に平行なモニタ-直線偏光及び垂直なモニタ-直線偏光の吸光度の比である2色比がほぼ極大値となるようにしたことを特徴とする高分子膜の光学的異方性発現方法。

IPC (5件)：

C08F112/14 ,  C08F112/34 ,  C08G 73/00 ,  C08G 73/10 ,  C08J 5/18

FI (5件)：

C08F112/14 ,  C08F112/34 ,  C08G 73/00 ,  C08G 73/10 ,  C08J 5/18

Fターム (26件)：

4F071AA30 ,  4F071AA31 ,  4F071AA37 ,  4F071AA39 ,  4F071AA60 ,  4F071AB18B ,  4F071AB28B ,  4F071AF01 ,  4F071AF12 ,  4F071AF35 ,  4F071AG15 ,  4F071BA02 ,  4F071BB02 ,  4F071BC02 ,  4J043PA01 ,  4J043YB44 ,  4J043ZA55 ,  4J043ZB23 ,  4J100AF10P ,  4J100AL69P ,  4J100AQ11P ,  4J100AR32P ,  4J100BA11P ,  4J100BC43P ,  4J100CA01 ,  4J100JA39