特許
J-GLOBAL ID：200903065310488089

散気処理装置

発明者：
小嶋 久夫

小嶋 久夫 について


出願人/特許権者：
株式会社アネモス

株式会社アネモス について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-385909
公開番号（公開出願番号）：特開2005-111467
出願日： 2003年10月10日
公開日（公表日）： 2005年04月28日
要約：
【課題】 気液の混合攪拌効率の向上による高性能化、省エネルギー化、省スペース化、メンテナンスフリーを達成し、大型化の容易な高効率の散気処理装置を提供する。【解決手段】 散気処理装置15は、長手方向を実質的に垂直にして配置された静止型混合器9を内設した筒状の通路管8と通路管8の下端側に気体を通路管8内に気送ライン11を介して噴出供給する気体噴出部12を配置し、気体噴出部12に静止型混合器13を内設し、気体噴出部12から気体を供給し、通路管8の下方側から液体を通路管8内に導入し、気体および液体は通路管8内を並流で上昇し、両者は通路管8の内部で気液接触し、通路管8の上端側から液体中に排出される。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
長手方向を実質的に垂直にして配置された静止型混合器を内設した筒状の通路管と前記通路管の下端側から気体を前記通路管内に気送ラインを介して噴出供給する気体噴出部を配置し、前記気体噴出部にスプレーノズルを内設し、前記気体噴出部から気体を供給し、前記通路管の下方側から液体を前記通路管内に導入し、前記気体および液体は前記通路管内を並流で上昇し、両者は前記通路管の内部で気液接触混合し、前記通路管の上端側から液体中に排出されることを特徴とする散気処置装置。
IPC (7件)：
C02F3/20 ,  B01D19/00 ,  B01F1/00 ,  B01F3/04 ,  B01F5/00 ,  C02F1/20 ,  C02F7/00
FI (7件)：
C02F3/20 Z ,  B01D19/00 F ,  B01F1/00 A ,  B01F3/04 A ,  B01F5/00 F ,  C02F1/20 A ,  C02F7/00
Fターム (23件)：
4D011AA15 ,  4D011AB06 ,  4D011AB07 ,  4D011AC04 ,  4D029AA01 ,  4D029AA09 ,  4D029AB05 ,  4D029AB06 ,  4D029AB07 ,  4D029BB10 ,  4D029BB11 ,  4D037AA01 ,  4D037AA05 ,  4D037AA11 ,  4D037AB14 ,  4D037BA23 ,  4D037BB04 ,  4D037BB05 ,  4G035AA01 ,  4G035AB05 ,  4G035AB27 ,  4G035AC05 ,  4G035AC10
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (14件)
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