近接場光露光用マスク、露光装置および露光方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小栗昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-353377
公開番号（公開出願番号）：特開2003-156834
出願日： 2001年11月19日
公開日（公表日）： 2003年05月30日
要約：

【要約】【課題】ステッキングが起きない近接場光露光用マスクを提供する。【解決手段】 1面に所定パターンの開口部を形成してウェハ2の表面に密着させ、近接場光露光を行う近接場光露光マスク1であって、材質がガラスまたは石英ガラス等の透明物質で、その厚さd1が1mm以下、好ましくは0.1〜0.5mmの円形形状の露光マスクとした。

請求項（抜粋）：

露光光に対して透明なマスク母材の一表面側に、所定パターンの開口部を残すように遮光部を形成し、この開口部が形成されたパターニング部分をウェハの表面に密着させて近接場光露光に用いられる近接場光露光用マスクにおいて、前記マスクが厚さ1mm以下の透明部材から成ることを特徴とする近接場光露光用マスク。

IPC (3件)：

G03F 1/14 , G03F 7/20 501 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 1/14 A , G03F 7/20 501 , H01L 21/30 502 P , H01L 21/30 502 D

Fターム (16件)：

2H095BA04 , 2H095BC27 , 2H095BC28 , 2H097CA12 , 2H097GA01 , 2H097LA17 , 5F046AA17 , 5F046BA01 , 5F046BA10 , 5F046CB17 , 5F046CC01 , 5F046CC02 , 5F046CD01 , 5F046CD02 , 5F046DA23 , 5F046DA24

引用特許：

審査官引用 (10件)

露光方法及び露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-322231 出願人：キヤノン株式会社
特開昭55-130542
特開昭62-005244

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