特許
J-GLOBAL ID：200903065330314680
光学特性に優れたビスフェノールAF及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
飯田 敏三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-315603
公開番号（公開出願番号）：特開平6-145090
出願日： 1992年11月02日
公開日（公表日）： 1994年05月24日
要約：
【要約】【目的】 光学的用途に好適なビスフェノールAFを提供する。また、この優れた光学特性を示すビスフェノールAFの製造方法を提供する。【構成】 2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン液を処理するに当り、下記一般式(I)【化1】(式中、R1 、R2 及びR3 は互いに同じでも、異なっていてもよく、水素原子又は炭素原子数1〜12のアルキル基を示す。)で表わされるベンゼン類中で活性白土で処理して2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパンを製造する。この2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパンは、20%エタノール溶液で孔径0.1ミクロンのフィルターでろ過処理した後のろ液が測定波長400nm、光路長250mmで透過率80%以上を有する。
請求項（抜粋）：
20%エタノール溶液で孔径0.1ミクロンのフィルターでろ過処理した後のろ液が測定波長400nm、光路長250mmで透過率80%以上を有することを特徴とする光学的特性に優れた2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン。
IPC (3件)：
C07C 39/367
, C07C 37/82
, C07C 37/84
