露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：平木祐輔 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-086711
公開番号（公開出願番号）：特開平9-283401
出願日： 1996年04月09日
公開日（公表日）： 1997年10月31日
要約：

【要約】【課題】ホトリソグラフィー工程において生じる気中の不純物や水分の影響を排除する。【解決手段】湿度除去手段22から乾燥ガスを得、その乾燥ガスをエアー吹き付け部20からウエハ待機部10、ウエハ搬送部11、ステージ8等に吹き付けることで、ウエハ6の周囲に湿度除去されたガスを供給する。湿度除去されたガスが供給される雰囲気中でウエハと接触する部材は金属製とし、アース24で接地することで静電気を除去する。

請求項（抜粋）：

紫外線を射出する光源部と、前記光源部から射出された紫外線でレチクルを照明する照明光学系と、前記レチクルの像を感光性基板上に転写する投影系部と、装置の一部もしくは全部を収容するチャンバーとを備える露光装置において、任意の部位に湿度除去された気体を供給することを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 516 F , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 502 G

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