特許
J-GLOBAL ID：200903065347249572
プラズマ処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
須山 佐一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-090404
公開番号（公開出願番号）：特開平5-121334
出願日： 1991年04月22日
公開日（公表日）： 1993年05月18日
要約：
【要約】【目的】 金属汚染の発生を抑制することができ、従来に較べて良好な処理を行うことのできるプラズマ処理装置を提供する。【構成】 上部電極2上に設けられた配管接続ブロック8は、セラミックス等から矩形のブロック状に形成されており、内部に処理ガス流路9、冷媒入口流路10、冷媒出口流路11が設けられている。これらの流路の上部にそれぞれ処理ガス供給配管13、冷媒入口配管14、冷媒出口配管15が接続されている。
請求項（抜粋）：
被処理物を収容するチャンバと、このチャンバ内に設けられ高周波電圧が印加される電極と、前記チャンバ内に所定の処理ガスを供給する処理ガス供給配管系とを具備したプラズマ処理装置において、前記処理ガス供給配管系の処理ガスとの接触部の少なくとも一部を、非金属製部材から構成したことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/205
, H01L 21/302
