特許

J-GLOBAL ID：200903065374729500

脱硝装置

発明者： 武田 博文 ,  二神 一浩
出願人/特許権者： 三浦工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-160142
公開番号（公開出願番号）：特開2004-360578
出願日： 2003年06月05日
公開日（公表日）： 2004年12月24日
要約：

【課題】パージエア供給ライン内への還元剤の流入による前記パージエア供給ラインの制御弁の作動不良を防止し、還元剤投入ノズルから排ガス中へ還元剤を安定して確実に投入することである。【解決手段】還元剤投入ノズル5への還元剤供給ライン7にパージエア供給ライン10を接続し、前記還元剤投入ノズル5への還元剤の非供給時、前記パージエア供給ライン10から前記還元剤投入ノズル5へ空気を供給する構成の脱硝装置4において、前記還元剤投入ノズル5および前記還元剤供給ライン7を上り勾配または水平に配置し、前記パージエア供給ライン10に上流側へ向けて立ち上がる立上り部11を設け、この立上り部11に制御弁12を設けた脱硝装置4である。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

還元剤投入ノズル5への還元剤供給ライン7にパージエア供給ライン10を接続し、前記還元剤投入ノズル5への還元剤の非供給時、前記パージエア供給ライン10から前記還元剤投入ノズル5へ空気を供給する構成の脱硝装置4において、前記還元剤投入ノズル5および前記還元剤供給ライン7を上り勾配または水平に配置し、前記パージエア供給ライン10に上流側へ向けて立ち上がる立上り部11を設け、この立上り部11に制御弁12を設けたことを特徴とする脱硝装置。

IPC (5件)：

F01N3/08 ,  B01D53/56 ,  B01D53/74 ,  B01D53/86 ,  B01D53/94

FI (4件)：

F01N3/08 B ,  B01D53/36 101A ,  B01D53/36 ,  B01D53/34 129E

Fターム (29件)：

3G091AA06 ,  3G091AA19 ,  3G091AB05 ,  3G091BA14 ,  3G091BA21 ,  3G091CA13 ,  3G091CA17 ,  3G091CA22 ,  3G091DB10 ,  3G091EA00 ,  3H058BB12 ,  3H058EE12 ,  4D002AA12 ,  4D002AC10 ,  4D002BA06 ,  4D002CA07 ,  4D002DA57 ,  4D002DA70 ,  4D002GA03 ,  4D002GB04 ,  4D002GB06 ,  4D048AA06 ,  4D048AB02 ,  4D048AC03 ,  4D048CC61 ,  4D048DA01 ,  4D048DA03 ,  4D048DA05 ,  4D048DA10