特許

J-GLOBAL ID：200903065393231858

スキャン型露光装置およびスキャン露光方法

発明者： 植松 政也
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-010808
公開番号（公開出願番号）：特開平10-209017
出願日： 1997年01月24日
公開日（公表日）： 1998年08月07日
要約：

【要約】【課題】 スキャン露光においてパターン密度に応じて露光量を変えること。【解決手段】 光源からの光をスリットSを介して基板10上に照射するにあたり、スリットSを通過する光を走査することで所定パターンの露光を行うスキャン型露光装置1では、このスリットSが、所定パターンの密度に応じて、走査の方向に沿った一の幅と他の幅とを備えている。また、予めスリットSの走査の方向に沿った幅として、所定パターンの密度に応じた一の幅と他の幅とを設定しておき、光源からの光をこの一の幅と他の幅とを備えたスリットSを介して基板10上に照射したり、また、一の幅のスリットSを介して照射した後、所定パターンの密度に応じて決められた部分に対してスリットSの一部を介して再照射するスキャン露光方法である。

請求項（抜粋）：

光源からの光をスリットを介して基板上に照射するにあたり、該スリットを通過する光を走査することで所定パターンの露光を行うスキャン型露光装置において、前記スリットは、前記所定パターンの密度に応じて、前記走査の方向に沿った一の幅と他の幅とを備えていることを特徴とするスキャン型露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (4件)：

H01L 21/30 518 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 514 C ,  H01L 21/30 515 D