特許
J-GLOBAL ID：200903065393397306
変位検出器のスケール製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊丹 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-143764
公開番号（公開出願番号）：特開平10-332360
出願日： 1997年06月02日
公開日（公表日）： 1998年12月18日
要約：
【要約】【課題】 複雑な工程を要せず高品位のスケールパターンを得ることを可能とし、特に長尺のスケールパターンを連続的に形成することを可能とした変位検出器のスケール製造装置を提供する。【解決手段】 ローダ部2とアンローダ部5の間に成膜室3とレーザ加工室4が配置され、全体が一つの真空装置1を構成としている。ローダ部2から繰り出されるスケール基材6には、成膜室3で薄膜が形成され、形成された薄膜はレーザ加工室4でスケールパターンに加工されて、アンローダ部5に収納される。加工室4には形成されたスケールパターンを用いて光電式エンコーダ44が構成され、その出力信号は描画速度制御信号として描画制御装置43に送られる。
請求項（抜粋）：
スケール基材を搬送する搬送手段と、この搬送手段により送り出される前記スケール基材上に薄膜を堆積する成膜室と、この成膜室を通って前記スケール基材上に形成された薄膜をレーザ光ビームにより所望ピッチのスケールパターンに加工するレーザ加工室とが一つの真空装置内に配置されていることを特徴とする変位検出器のスケール製造装置。
IPC (4件)：
G01B 21/02
, B23K 26/00
, G01D 5/36
, G01B 7/00
G01B 21/02 Z
, B23K 26/00 G
, G01D 5/36 B
, G01B 7/00 F
