特許

J-GLOBAL ID：200903065400746931

荷電粒子ビーム露光装置及び露光方法

発明者： 高橋 靖 ,  佐藤 高雅 ,  大饗 義久
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-155724
公開番号（公開出願番号）：特開平7-142315
出願日： 1993年06月25日
公開日（公表日）： 1995年06月02日
要約：

【要約】【目的】 本発明は荷電粒子ビーム露光装置及び露光方法に関し、ステージの傾きにより生じるビーム照射位置のずれを補正して、ビーム照射位置の精度を向上させることを目的とする。【構成】 傾き測定手段101は、ステージ35の傾きを測定する。位置ずれ算出手段102は、上記測定されたステージ35の傾きから、ステージ35上の試料Wの照射目標位置からの、荷電粒子ビームの照射位置の位置ずれを算出する。偏向信号補正手段103は、位置ずれ算出手段102で算出した位置ずれに応じて、偏向器34に供給される偏向信号を、荷電粒子ビームが試料Wの照射目標位置に照射されるように補正する。偏向器34は、上記偏向信号を供給されて、荷電粒子ビームの偏向を行う。

請求項（抜粋）：

偏向信号に応じて電荷粒子ビームを偏向する偏向器(34)により荷電粒子ビームを偏向させつつ、ステージ(35)上の試料(W)に照射して露光を行う荷電粒子ビーム露光装置において、上記ステージ(35)の傾きを測定する傾き測定手段(101)と、上記傾き測定手段(101)により測定されたステージ(35)の傾きから、上記ステージ(35)の傾きにより生じる上記荷電粒子ビームの照射位置の上記試料(W)の被露光面上の照射目標位置からの位置ずれを算出する位置ずれ算出手段(102)と、上記位置ずれ算出手段(102)で算出した位置ずれに応じて、上記偏向器(34)に供給される上記偏向信号を、上記荷電粒子ビームが上記試料(W)の照射目標位置に照射されるように補正する偏向信号補正手段(103)とを有することを特徴とする荷電粒子ビーム露光装置。

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭53-145475
  
• 特開平1-286420
  
• 特開昭53-145475
  
• 特開平1-286420