特許
J-GLOBAL ID:200903065407191170

光ディスクおよびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 石川 泰男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-076154
公開番号(公開出願番号):特開平7-287863
出願日: 1994年04月14日
公開日(公表日): 1995年10月31日
要約:
【要約】【目的】 生産工程における光透過性基板の機械的特性の劣化がなく、しかも生産性に優れた光ディスクおよびその光ディスクを簡易な設備で効率良く得ることのできる製造方法を提供する【構成】 光透過性基板1上に、室温・未硬化状態での粘度が光透過性基板1の室温下での粘度よりも低い未硬化状態のドライ光硬化性フィルム2を積層した後、室温下、このドライ光硬化性フィルム2にピット4を加圧成形し、その後、この未硬化状態のドライ光硬化性フィルム2と反射膜付き保護フィルム3とを圧着してからドライ光硬化性フィルム2に紫外線を照射してドライ光硬化性フィルム2を硬化させて光ディスクとする。
請求項(抜粋):
光透過性基板と、前記光透過性基板上に積層されたドライ光硬化性フィルムと、前記ドライ光硬化性フィルム上に積層された反射膜付き保護フィルムとを有する光ディスクであって、前記ドライ光硬化性フィルムは室温・未硬化状態での粘度が前記光透過性基板の室温下での粘度よりも低く、前記ドライ光硬化性フィルムには情報信号に相当するピットが形成されていることを特徴とする光ディスク。
IPC (4件):
G11B 7/24 516 ,  B29C 59/02 ,  B29D 17/00 ,  G11B 7/26 531

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