特許

J-GLOBAL ID：200903065408497671

再帰性反射シートおよびその製造方法

発明者： 鳥海 尚之 ,  畑 みちる
出願人/特許権者： ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー
代理人 (1件)： 青山 葆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-260603
公開番号（公開出願番号）：特開平10-111660
出願日： 1996年10月01日
公開日（公表日）： 1998年04月28日
要約：

【要約】【課題】 高入射角光を反射シートの全反射面において均一かつ高輝度で再帰性反射可能な様に、反射ビーズの埋設面に形状や大きさが均一な規則的凹凸パターンを効果的に形成された、高入射角タイプの再帰性反射シートを提供する。【解決手段】 規則的な凹凸パターンを有する支持層と、その支持層表面に埋設させて接着した複数の反射ビーズとからなる反射層を含んでなる再帰性反射シートにおいて、上記反射層を、形状記憶性樹脂を含み、上記凹凸パターンを原形状として記憶している支持層を形成し、上記支持層の少なくとも凸部に上記反射ビーズを、上記凹凸パターンが変形する様な圧力を加えて接触させ、上記反射ビーズを上記支持層に埋設して接着した後、変形した上記凹凸パターンの原形状を回復させて形成する。

請求項（抜粋）：

規則的な凹凸パターンを有する支持層と、その支持層表面に埋設させて接着した複数の反射ビーズとからなる反射層を含んでなる再帰性反射シートにおいて、上記反射層は、(1)形状記憶性樹脂を含み、上記凹凸パターンを原形状として記憶している支持層を形成し、(2)上記支持層の少なくとも凸部に上記反射ビーズを、上記凹凸パターンが変形する様な圧力を加えて接触させ、上記反射ビーズを上記支持層に埋設して接着した後、(3)変形した上記凹凸パターンの原形状を回復させて形成したものであることを特徴とする、再帰性反射シート。

IPC (4件)：

G09F 13/16 ,  B32B 3/14 ,  B32B 3/30 ,  B29C 59/00

FI (4件)：

G09F 13/16 F ,  B32B 3/14 ,  B32B 3/30 ,  B29C 59/00