特許
J-GLOBAL ID:200903065409833233
培養液浄化装置及びそのろ過膜の洗浄方法
発明者:
,
,
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (1件):
瀧野 秀雄 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-006643
公開番号(公開出願番号):特開2002-204933
出願日: 2001年01月15日
公開日(公表日): 2002年07月23日
要約:
【要約】【課題】 養液栽培養液を膜ろ過により浄化する培養液浄化装置のろ過膜の交換頻度を著しく低下させ、長期間に亘って安定的に運転可能な培養液浄化装置を提供する。【解決手段】 養液栽培培養液を膜ろ過により浄化する培養液浄化装置において、差圧検出手段、流量検出手段、エアスクラビング処理手段、次亜塩素酸塩処理手段、ろ過膜の上流と下流との差圧が所定の圧力以上となり、かつ、ろ過流量が所定の流量以上である場合に前記エアスクラビング処理手段にエアスクラビング処理を行なわせるエアスクラビング処理判断手段とろ過膜の上流と下流との差圧が所定の圧力以上となり、かつ、ろ過流量が所定の流量未満である場合に前記次亜塩素酸塩処理手段に次亜塩素酸塩処理を行なわせる次亜塩素酸塩処理判断手段とを有することを特徴とする培養液浄化装置。
請求項(抜粋):
養液栽培培養液を膜ろ過により浄化する培養液浄化装置において、ろ過膜の上流と下流との差圧を検出する差圧検出手段、ろ過流量を検出する流量検出手段、ろ過膜に対してエアスクラビング処理を行うエアスクラビング処理手段、ろ過膜に対して次亜塩素酸塩溶液による次亜塩素酸塩処理を行う次亜塩素酸塩処理手段、ろ過膜の上流と下流との差圧が所定の圧力以上となり、かつ、ろ過流量が所定の流量以上である場合に前記エアスクラビング処理手段にエアスクラビング処理を行なわせるエアスクラビング処理判断手段とろ過膜の上流と下流との差圧が所定の圧力以上となり、かつ、ろ過流量が所定の流量未満である場合に前記次亜塩素酸塩処理手段に次亜塩素酸塩処理を行なわせる次亜塩素酸塩処理判断手段とを有することを特徴とする培養液浄化装置。
IPC (4件):
B01D 65/02 520
, B01D 65/02
, A01G 31/00 601
, B01D 65/06
FI (4件):
B01D 65/02 520
, B01D 65/02
, A01G 31/00 601 A
, B01D 65/06
Fターム (16件):
2B314PA11
, 4D006GA02
, 4D006HA01
, 4D006HA21
, 4D006HA61
, 4D006KC02
, 4D006KC14
, 4D006KC16
, 4D006KD24
, 4D006KE01P
, 4D006KE06P
, 4D006KE06R
, 4D006KE24Q
, 4D006KE30Q
, 4D006MA01
, 4D006MA02
引用特許: