特許
J-GLOBAL ID：200903065421548536
画像処理方法及びその装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大塚 康徳 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-172098
公開番号（公開出願番号）：特開平5-020467
出願日： 1991年07月12日
公開日（公表日）： 1993年01月29日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、複雑輪郭線内部を塗り潰す処理を、その図形の歪を発生せず、高速に且つ簡便・安価に実現させることを可能にする画像処理方法及びその装置を提供しようとするものである。【構成】 本発明においては、閉輪郭を決定する各線要素において、注目線要素が水平であると判断したときその線要素のページメモリ3への描画は行わない。水平でないと判断した場合には、注目線要素とその前後に隣接するそれぞれの線要素との接続関係及び塗りつぶすべき領域の方向に基づいて、当該注目線要素の両端点の位置を図22の規則に従って補正する。そして、補正された両端点位置に基づいて順次ページメモリ3上に線要素を描画する。そして、その後、ページメモリに対して主走査方向に走査するときの奇数番目に遭遇する輪郭は当該画素位置が領域の正転位置を示しているとして、偶数番目に遭遇する輪郭の進行方向にある隣接画素位置は当該画素位置が領域の反転位置を示しているとして塗り潰す。
請求項（抜粋）：
複数の線要素でもって構成された閉輪郭の内部を塗り潰す画像処理方法において、注目線要素の向きに基づいて、当該注目線要素を描画するか否かを判定する判定行程と、該判定行程で描画対象であると判定された注目線要素に対し、当該注目線要素とその前後に隣接するそれぞれの線要素との接続関係及び塗りつぶすべき領域の方向に基づいて、当該注目線要素の両端点の位置を補正する補正行程と、該補正行程で補正さた両端点の位置で注目線要素を画像展開用メモリに描画する線要素描画行程と、前記画像展開用メモリに対して主走査方向に走査するときの奇数番目に遭遇する輪郭は当該画素位置が領域の正転位置を示しているとして、偶数番目に遭遇する輪郭の進行方向にある隣接画素位置は当該画素位置が領域の反転位置を示しているとして塗り潰す塗り潰し行程とを備えることを特徴とする画像処理方法。
引用特許：
前のページに戻る
