特許

J-GLOBAL ID：200903065422731911

酸化チタン薄膜の製造方法

発明者： 出野 裕 ,  小海 文夫 ,  小塩 明 ,  藤田 昌邦
出願人/特許権者： 富士電機リテイルシステムズ株式会社 ,  国立大学法人三重大学
代理人 (1件)： 酒井 宏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-204944
公開番号（公開出願番号）：特開2006-063440
出願日： 2005年07月13日
公開日（公表日）： 2006年03月09日
要約：

【課題】製造作業の煩雑化を招来することなく、多孔質で表面が粒状の酸化チタン薄膜を製造することのできる方法を提供することを目的とする。【解決手段】超音波処理もしくは高周波処理を施すことによって表面に欠陥部位及び/または細孔及び/または酸化部位を設けた調整稠密多層カーボンナノチューブをガラス基板に分散配置した後、このカーボンナノチューブに対して酸素ガス雰囲気中でレーザーアブレーション法により酸化チタンを蒸着させるようにしている。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

表面改質処理を施したカーボンナノチューブを基板に分散配置した後、この基板に酸化チタンの蒸着処理を施すことを特徴とする酸化チタン薄膜の製造方法。

IPC (4件)：

C23C 14/08 ,  C01B 31/02 ,  C23C 14/28 ,  H01L 31/04

FI (4件)：

C23C14/08 E ,  C01B31/02 101F ,  C23C14/28 ,  H01L31/04 Z

Fターム (23件)：

4G146AA11 ,  4G146AA16 ,  4G146AB06 ,  4G146AB07 ,  4G146AD11 ,  4G146AD23 ,  4G146AD35 ,  4G146BA02 ,  4G146BA04 ,  4G146BC09 ,  4G146CB19 ,  4G146CB22 ,  4G146CB23 ,  4G146CB29 ,  4G146CB34 ,  4K029AA09 ,  4K029BA48 ,  4K029CA02 ,  4K029DB03 ,  4K029DB08 ,  4K029DB20 ,  4K029FA01 ,  5F051AA14

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 酸化チタン薄膜の製造法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-367741   出願人：エヌオーケー株式会社
• 酸化チタン薄膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-276119   出願人：帝国化学産業株式会社

審査官引用 (4件)

• 光電変換素子用基材およびその製造方法ならびに光電変換素子およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-109902   出願人：株式会社フジクラ
• 可視光下で光触媒性を示す酸化チタン膜及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-323194   出願人：日本原子力研究所
• 光電変換素子及び光電変換素子の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-322400   出願人：日本電気株式会社
• カーボンナノチューブの合成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-175498   出願人：李鉄真, 株式会社日進ナノテック