特許

J-GLOBAL ID：200903065431301946

電子ビーム近接露光装置の調整方法および調整装置

発明者： 川村 幸里
出願人/特許権者： 株式会社東京精密
代理人 (5件)： 石田 敬 ,  鶴田 準一 ,  小林 龍 ,  西山 雅也 ,  樋口 外治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-016337
公開番号（公開出願番号）：特開2004-228430
出願日： 2003年01月24日
公開日（公表日）： 2004年08月12日
要約：

【課題】焦点および非点収差調整を自動的に行うことができる電子ビーム近接露光装置の調整方法および調整装置を提供する。【解決手段】本発明の調整装置(101、121)は、所定形状スリットにより、測長部分を設けて電子ビームを整形する整形手段(131)と、測長部分を測長する測長手段(117)と、各焦点状態における測長結果とそのときのビーム平行度とを記憶する記憶手段(119)と、前記電子ビームの焦点を較正する焦点較正手段(113)とを備え、さらに各非点収差状態における測長結果とそのときの非点収差状態とを記憶する記憶手段(121)または直交する2方向に関する測長結果を比較する比較手段(189、191)と、電子ビームの非点収差を補正する非点収差補正手段(125、127)とを備えて構成した。【選択図】 図10

請求項（抜粋）：

所定形状のスリットにより電子ビームを整形して前記スリットから所定距離を隔てた位置で測長される測長ビームを形成し、少なくとも1つの電子ビーム状態における前記測長ビームの測長結果と該電子ビーム状態を示す情報とを較正情報として対応して記憶しておく記憶ステップと、 前記スリットによる測長ビームを測長する測長ステップと、 前記測長ステップの測長結果と前記較正情報とに基づき前記電子ビームを較正する較正ステップとを備えることを特徴とする電子ビーム近接露光装置の調整方法。

IPC (5件)：

H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  H01J37/153 ,  H01J37/21 ,  H01J37/305

FI (6件)：

H01L21/30 541V ,  G03F7/20 504 ,  H01J37/153 Z ,  H01J37/21 Z ,  H01J37/305 B ,  H01L21/30 541U

Fターム (11件)：

2H097CA16 ,  2H097GA45 ,  2H097LA10 ,  5C033JJ01 ,  5C033MM03 ,  5C034BB08 ,  5F056AA25 ,  5F056BA05 ,  5F056CB29 ,  5F056CB33 ,  5F056EA05