特許
J-GLOBAL ID：200903065465293918
荷電ビーム描画装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 章夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-296548
公開番号（公開出願番号）：特開平9-139337
出願日： 1995年11月15日
公開日（公表日）： 1997年05月27日
要約：
【要約】【課題】 荷電ビームを用いた一括パターン照射法の描画装置では、転写パターンを試料に転写するための転写マスクの位置決め法として、荷電ビームが投射されたときに生じる放射物を検出してパターン認識を行って位置決めを行っているため、位置決めに時間がかかる。【解決手段】 荷電ビーム発生源101からの荷電ビーム102を転写マスク(第2アパチャ)107を通して試料108に描画する描画装置において、第2アパチャ107を含む第2アパチャ用ステージ106の広い範囲を観察可能な低倍率の状態と、第2アパチャ用ステージ106上の位置合わせマークを拡大観察可能な高倍率の状態に変更可能な光学顕微鏡113を設け、低倍率で位置合わせマークを粗位置調整し、その後に高倍率で位置合わせマークを微位置調整する。位置合わせマークを短時間に認識して基準位置に対する位置合わせを行うことが可能となり、第2アパチャ107の迅速な位置合わせ及びパターン欠陥の検出が可能となる。
請求項（抜粋）：
荷電ビーム発生源で発生された荷電ビームを第1アパチャで成形し、これを所望の転写パターンの開口が形成された第2アパチャに照射して前記転写パターンを試料に一括照射投影する荷電ビーム描画装置において、前記第2アパチャを載置するステージは平面方向に位置調整可能とされ、かつ前記第2アパチャまたはステージの表面に設けられた位置合わせマークを観察して前記第2アパチャの位置合わせを行うための倍率が変更可能な顕微鏡を備えることを特徴とする荷電ビーム描画装置。
FI (3件)：
H01L 21/30 541 K
, H01L 21/30 541 D
, H01L 21/30 541 U
