特許

J-GLOBAL ID：200903065467668188

熱処理装置および熱処理装置用リフト部材

発明者： 高木 庸司 ,  佐藤 信彦
出願人/特許権者： アプライドマテリアルズジャパン株式会社 ,  キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 山下 穣平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-002842
公開番号（公開出願番号）：特開2001-199791
出願日： 2000年01月11日
公開日（公表日）： 2001年07月24日
要約：

【要約】【課題】 被処理体の加熱の均一性を、熱処理条件の相違に対しても確保できるように、リフト部材の構成を工夫した熱処理装置を提供する。【解決手段】支持台と、該支持台を貫通する複数の貫通孔に挿入された複数のリフト部材と、該リフト部材を前記支持台に対して相対的に昇降させるための昇降手段と、赤外線加熱手段とを有し、前記支持台上面に載置された被処理体を加熱するに熱処理装置において、前記リフト部材は、前記赤外線加熱手段から放射される赤外線の透過率および/あるいは熱伝導率が異なる部材を接合して構成されていることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

支持台と、該支持台を貫通する複数の貫通孔に挿入された複数のリフト部材と、該リフト部材を前記支持台に対して相対的に昇降させるための昇降手段と、赤外線加熱手段とを有し、前記支持台上面に載置された被処理体を加熱する熱処理装置において、前記リフト部材は、前記赤外線加熱手段から放射される赤外線の透過率および/あるいは熱伝導率が異なる部材を接合して構成されていることを特徴とする熱処理装置。

IPC (4件)：

C30B 25/12 ,  F27D 3/12 ,  F27D 7/02 ,  H01L 21/205

FI (4件)：

C30B 25/12 ,  F27D 3/12 Z ,  F27D 7/02 Z ,  H01L 21/205

Fターム (29件)：

4G077AA03 ,  4G077DB01 ,  4G077EG03 ,  4G077EG04 ,  4G077EG16 ,  4G077TF01 ,  4G077TF02 ,  4K055AA05 ,  4K055HA01 ,  4K055HA15 ,  4K055HA18 ,  4K055HA27 ,  4K063AA05 ,  4K063AA11 ,  4K063BA04 ,  4K063BA12 ,  4K063CA03 ,  5F045AA03 ,  5F045AB02 ,  5F045AC05 ,  5F045BB02 ,  5F045DP04 ,  5F045EB03 ,  5F045EK12 ,  5F045EK13 ,  5F045EK21 ,  5F045EM09 ,  5F045EM10 ,  5F045EN04

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-193550   出願人：赤澤廉正