特許

J-GLOBAL ID：200903065472276182

スキャン型露光装置

発明者： 黒澤 博史
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-161024
公開番号（公開出願番号）：特開平7-142337
出願日： 1993年06月30日
公開日（公表日）： 1995年06月02日
要約：

【要約】【目的】 スキャン型露光装置において、マスクステージとウエハステージの露光動作中の移動を効率的に行うことを可能にすると共に、マスクとウエハを高精度にアライメントしたままスキャン露光することを可能にする。【構成】 マスクとウエハ間の相対ずれを計測しながらマスクステージ28に対するウエハステージ27の移動を制御するトラッキング制御と、機械原点29に対するウエハステージ27の距離に基づいてウエハステージ27の移動を制御する位置制御を併用すると共に、各制御を所定の判断基準に従って混合比率を徐々に変化させながら切り換えて使用する。

請求項（抜粋）：

細長いスリット状の露光ビームでマスクをスリットに対し直角方向にスキャンすることによって、前記マスク上に形成されたパターンを感光基板上の被露光領域に転写するスキャン型露光装置において、前記マスクをスキャン方向に沿って少なくとも一次元移動させるマスクステージと、前記感光基板を前記マスクステージの一次元移動方向に沿って前記マスクステージと同期する速度で移動するウエハステージと、前記マスクステージと前記ウエハステージの装置の機械原点からの距離を各々計測する第1計測手段と、前記マスクステージの移動方向に沿って一定間隔で配置された前記マスク上のグレーティングパターンと前記ウエハステージの移動方向に沿って一定間隔で配置された前記感光基板上のグレーティングパターンとの間における相対位置ずれ量を光電的に検出する第2計測手段と、前記1計測手段により前記ウエハステージ及び前記マスクステージの速度及び位置の少なくとも一方を制御する第1制御手段と、前記第2計測手段により検出される前記マスクと前記感光基板間における相対位置ずれ量が所定の値に維持されるように前記マスクステージ及び前記ウエハステージの少なくとも一方を制御する第2制御手段と、所定の判断基準に従って前記第1制御手段と第2制御手段を停止することなく切り換える切り換え手段を有することを特徴とするスキャン型露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/22 ,  G03F 9/00

FI (3件)：

H01L 21/30 516 B ,  H01L 21/30 516 C ,  H01L 21/30 516 D