特許

J-GLOBAL ID：200903065477737137

反射防止フィルム及びその製造方法

発明者： 林 秀樹
出願人/特許権者： 積水化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-146407
公開番号（公開出願番号）：特開2003-337203
出願日： 2002年05月21日
公開日（公表日）： 2003年11月28日
要約：

【要約】【課題】 常圧プラズマCVDを用いて平均反射率が小さく、反射時の色目が淡く、かつ膜硬度に優れた反射防止フィルム及びその製造方法の提供。【解決手段】 放電プラズマを利用する反射防止フィルムの製造方法において、高屈折率材料を含む原料ガスを供給し、一部反応性を残した状態で、高屈折率層を基材フィルム上に形成する第1の工程と、次いで該高屈折率層の上に低屈折率材料を含む原料ガスを供給し、高屈折率と低屈折率の中間の屈折率を持つ層を形成する第2の工程を含む反射防止フィルムの製造方法、及び基材フィルム上に、高屈折率層および低屈折率層が界面を持たずに順次積層してなる反射防止フィルムであって、高屈折率層は、波長550nmにおける屈折率が1.65〜1.75、光学膜厚が140〜200nmであり、一方、低屈折率層は、最低反射波長が550〜600nmである反射防止フィルムにて提供。

請求項（抜粋）：

大気圧近傍の圧力下、金属化合物を含む原料ガス雰囲気中で、対向電極間に電界を印加することにより発生する放電プラズマを利用して、基材フィルム上に、少なくとも2種の屈折率の異なる金属化合物膜を形成させる反射防止フィルムの製造方法において、高屈折率材料を含む原料ガスを供給し、放電プラズマ処理することにより、一部反応性を残した状態で、高屈折率層を基材フィルム上に形成する第1の工程と、次いで該高屈折率層の上に低屈折率材料を含む原料ガスを供給し、放電プラズマ処理することにより、高屈折率と低屈折率の中間の屈折率を持つ層を形成する第2の工程を含むことを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。

IPC (4件)：

G02B 1/11 ,  B32B 9/00 ,  B32B 27/36 ,  C23C 16/40

FI (4件)：

B32B 9/00 A ,  B32B 27/36 ,  C23C 16/40 ,  G02B 1/10 A

Fターム (61件)：

2K009AA05 ,  2K009AA10 ,  2K009BB24 ,  2K009CC03 ,  2K009CC42 ,  2K009CC45 ,  2K009DD04 ,  2K009DD09 ,  4F100AA20C ,  4F100AA21B ,  4F100AA27B ,  4F100AA28B ,  4F100AA33B ,  4F100AJ05A ,  4F100AJ06A ,  4F100AK01A ,  4F100AK04A ,  4F100AK07A ,  4F100AK08A ,  4F100AK12A ,  4F100AK15A ,  4F100AK16A ,  4F100AK21A ,  4F100AK25A ,  4F100AK42A ,  4F100AK45A ,  4F100AK46A ,  4F100AK49A ,  4F100AK54A ,  4F100AK55A ,  4F100AK56A ,  4F100AR00B ,  4F100AR00C ,  4F100BA03 ,  4F100BA04 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100EG002 ,  4F100EJ612 ,  4F100JK06 ,  4F100JN06 ,  4F100JN18B ,  4F100JN18C ,  4F100YY00B ,  4F100YY00C ,  4K030AA11 ,  4K030AA14 ,  4K030BA01 ,  4K030BA10 ,  4K030BA11 ,  4K030BA13 ,  4K030BA17 ,  4K030BA22 ,  4K030BA42 ,  4K030BA45 ,  4K030BA46 ,  4K030BA47 ,  4K030CA07 ,  4K030CA12 ,  4K030FA03 ,  4K030LA18