特許
J-GLOBAL ID：200903065480461258
露光マスクの製造方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
外川 英明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-171918
公開番号（公開出願番号）：特開平10-020471
出願日： 1996年07月02日
公開日（公表日）： 1998年01月23日
要約：
【要約】【課題】 透光部通過光と位相シフタ通過光の位相差、位相シフタ通過光の強度の露光による経時変化、薬品等による経時変化を低減させる。【解決手段】 基板101上に半透明膜103を形成すると同時に基板101を300°Cに加熱し、その後基板101を成膜チャンバから取り出す。
請求項（抜粋）：
成膜チャンバ内においてマスク基板を所定の温度に加熱する工程と、前記成膜チャンバ内において半透明膜を前記所定の温度に加熱されている前記マスク基板の上に成膜する工程を具備することを特徴とする露光マスクの製造方法。
IPC (2件)：
FI (4件)：
G03F 1/08 A
, G03F 1/08 L
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
