特許
J-GLOBAL ID：200903065521395818

有害物質除去剤およびその製造方法並びにそれを用いた有害物質除去方法

発明者：
野村 英司

野村 英司 について

, 
小山 俊洋

小山 俊洋 について

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小泉 純子

小泉 純子 について


出願人/特許権者：
石原産業株式会社

石原産業株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-140822
公開番号（公開出願番号）：特開平9-299809
出願日： 1996年05月09日
公開日（公表日）： 1997年11月25日
要約：
【要約】【課題】取り扱い性が良く、高い光触媒活性を持ち、かつ、その光触媒活性を長期間にわたって維持でき、しかも、湿潤下でも使用できる有害物質除去剤を提供することを課題とする。【解決手段】金属酸化物ゾルを構成していた金属酸化物を結着剤として用いた、少なくとも光半導体と該金属酸化物から成る有害物質除去剤である。また、光半導体と金属酸化物ゾルとの混合物を造粒あるいは成形し、次いで、乾燥する有害物質除去剤の製造方法である。さらに、前記有害物質除去剤に有害物質を含む流体を接触させて、あるいは有害物質除去剤に光を照射しながら有害物質を含む流体を接触させて、有害物質を除去する有害物質除去方法である。
請求項（抜粋）：
金属酸化物ゾルを構成していた金属酸化物を結着剤として用いた、少なくとも光半導体と該金属酸化物から成る造粒体あるいはそれらの成形体であることを特徴とする有害物質除去剤。
IPC (3件)：
B01J 35/02 ,  B01D 53/86 ,  B01J 21/06 ZAB
FI (3件)：
B01J 35/02 J ,  B01J 21/06 ZAB M ,  B01D 53/36 G
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (9件)
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