特許

J-GLOBAL ID：200903065527708125

イオン照射装置

発明者： 西上 靖明
出願人/特許権者： 日新電機株式会社
代理人 (1件)： 山本 惠二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-131075
公開番号（公開出願番号）：特開平9-293481
出願日： 1996年04月25日
公開日（公表日）： 1997年11月11日
要約：

【要約】【課題】 静電チャック方式の基板保持手段を用いながら、基板のチャージアップを抑制する。【解決手段】 イオンビーム照射領域にある静電チャック10の上流側近傍に、そこを通過するイオンビーム2を取り囲むように、ベース6と同電位の当て板22を設けた。この当て板22の開口部24の上流側の周囲の面は斜面26になっており、そこにイオンビーム2の周縁部が当たるようにされており、そこから二次電子38が発生する。この当て板22の内周面から上流側端面および外周面を覆うように、ベース6に対して負電圧が印加されるリフレクタ電極30を設けた。このリフレクタ電極30の負電界によって、二次電子38を静電チャック10上の基板4側に押し戻すことができる。

請求項（抜粋）：

基板を静電気によって吸着保持する静電チャックと、この静電チャックを支持するベースとを備え、この静電チャック上に吸着保持した基板にイオンビームを照射する構成のイオン照射装置において、前記静電チャックの上流側近傍に、そこを通過するイオンビームを取り囲むように、かつ当該イオンビームの周縁部が当たるように設けられていて、そのイオンビームの当たる面が上流側に向かって斜めに広がった斜面になっており、かつ前記ベースと同電位の当て板と、この当て板の内周面から上流側端面および外周面にかけての部分を当該当て板から電気的に絶縁した状態で覆うものであって、前記ベースに対して負電圧が印加されるリフレクタ電極とを備えることを特徴とするイオン照射装置。

IPC (4件)：

H01J 37/317 ,  C23C 14/48 ,  H01J 37/20 ,  H01L 21/265

FI (5件)：

H01J 37/317 Z ,  C23C 14/48 C ,  H01J 37/20 G ,  H01L 21/265 N ,  H01L 21/265 E