特許
J-GLOBAL ID:200903065540547629

燃焼排ガスの処理方法と流動層焼却プラント

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 吉嶺 桂 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-226106
公開番号(公開出願番号):特開平9-053815
出願日: 1995年08月11日
公開日(公表日): 1997年02月25日
要約:
【要約】【課題】 高価な活性炭を購入する必要がなく、極めて経済的にダイオキシンや水銀等の微量有害物質を除去できる燃焼排ガスの処理方法と流動層焼却プラントを提供する。【解決手段】 可燃性廃棄物を焼却する流動層焼却プラントにおいて、流動層焼却炉1の流動層3途中からチャー及び不燃物を含んだ流動媒体を抜き出す排出口4と、抜き出した不燃物とチャー及び流動媒体とを分離する不燃物分離装置10と、チャーと流動媒体を分離するチャー分離装置13を順次設け、別に前記流動層焼却炉の排ガス流路16に集塵装置18を設置し、該集塵装置の入口部の排ガス流路に前記分離したチャー15を導入する導入口を設けたものであり、排ガス流路には分離したチャーと共に脱塩素化剤11を導入するのがよい。
請求項(抜粋):
可燃性廃棄物を焼却する流動層焼却炉の燃焼排ガスの処理方法において、該流動層焼却炉の流動層部からチャー及び不燃物を含んだ流動媒体を抜き出し、抜き出したチャーと不燃物及び流動媒体からチャーを分離し、分離したチャーを前記流動層焼却炉からの燃焼排ガスに添加した後、集塵することを特徴とする流動層焼却炉の燃焼排ガスの処理方法。
IPC (8件):
F23G 5/30 ZAB ,  F23G 5/30 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/70 ,  B01D 53/64 ,  F23C 11/02 ZAB ,  F23C 11/02 308 ,  F23J 15/00 ZAB
FI (8件):
F23G 5/30 ZAB E ,  F23G 5/30 ZAB L ,  F23C 11/02 ZAB ,  F23C 11/02 308 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 134 E ,  B01D 53/34 136 A ,  F23J 15/00 ZAB G
引用特許:
審査官引用 (2件)

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