特許
J-GLOBAL ID:200903065542382090

ゾーンプレート製造方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 佐藤 正年 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-170372
公開番号(公開出願番号):特開平8-015509
出願日: 1994年06月30日
公開日(公表日): 1996年01月19日
要約:
【要約】【目的】 設計した同心円状のパターンを正確に露光(描画)できるゾーンプレート製造方法及び装置を得る。【構成】 段差パターンが設けられた基板の表面に、フォトレジストを塗布して、露光処理を行う際に、露光手段が、前回の露光により得られた段差パターンに対して常に直径方向に一定距離を保つように集光スポット位置を制御する。
請求項(抜粋):
同心円状の異なるパターンを基板上に重ねて露光することにより断面形状が階段状の構造が形成されてなるゾーンプレートの製造方法であって、二回目以降の重ね合わせ露光の際に、それ以前に形成されたパターンの位置を検出すると共に、ここで検出された位置情報に基いて露光の位置合わせを行なうことを特徴とするゾーンプレート製造方法。

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