特許

J-GLOBAL ID：200903065543862665

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者： 佐々木 知也
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-299022
公開番号（公開出願番号）：特開2005-070327
出願日： 2003年08月22日
公開日（公表日）： 2005年03月17日
要約：

【課題】160nm以下、特にF2エキシマレーザー光(157nm)の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】(A1)ポリマー骨格の主鎖及び/又は側鎖にフッ素原子が置換した構造を有し、且つ酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大するフッ素基含有樹脂、及び、(B)活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物であって、該組成物中の含水率が0.3質量%未満であることを特徴とするポジ型レジスト組成物、並びに、(A2)ポリマー骨格の主鎖及び/又は側鎖にフッ素原子が置換した構造を有するアルカリ可溶性のフッ素含有樹脂、(B)活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物、及び、(X)非ポリマー型溶解抑止剤を含有するポジ型レジスト組成物であって、該組成物中の含水率が0.3質量%未満であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A1)ポリマー骨格の主鎖及び/又は側鎖にフッ素原子が置換した構造を有し、且つ酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大するフッ素基含有樹脂、及び、 (B)活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物 を含有するポジ型レジスト組成物であって、該組成物中の含水率が0.3質量%以下であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

FI (3件)：

G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R

Fターム (15件)：

2H025AA03 ,  2H025AA11 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB45 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 化学増幅型ポジレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-172414   出願人：富士写真フイルム株式会社
• WO-00/17712号パンフレット