特許

J-GLOBAL ID：200903065546691659

回転ディスクの表面処理方法および装置

発明者： 岩田 哲也 ,  中澤 信夫
出願人/特許権者： システム精工株式会社
代理人 (1件)： 筒井 大和 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-181966
公開番号（公開出願番号）：特開平11-019609
出願日： 1997年07月08日
公開日（公表日）： 1999年01月26日
要約：

【要約】【課題】 回転ディスクの両面に対する洗浄処理や研磨処理などの処理を簡単に行い得るようにする。【解決手段】 回転ディスク10は位置決めローラ13,14に外周面が接触して所定の位置に位置決めされる。回転ディスク10の両側にはその一方の面に接触する第1処理ローラ17と、他方の面に接触する第2処理ローラ18とが配置されており、これらの処理ローラ17,18は相互に接近離反移動自在となっている。両方の処理ローラ17,18によって回転ディスク10が挟まれた状態にあっては、両方の処理ローラ17,18の一端部側と他端部側とでは、回転ディスク10に対して相違した摩擦力が加えられる。これにより、処理ローラ17,18の回転運動は回転ディスク10の回転運動に変換されつつ、回転ディスクの表面に対する処理が施される。

請求項（抜粋）：

一対の位置決めローラに回転ディスクの外周を接触させ、前記回転ディスクの一方の面に接触する第1処理ローラと、前記回転ディスクの他方の面に接触し前記第1処理ローラに沿って配置された第2処理ローラとの間で前記回転ディスクを挟むとともに、前記両処理ローラの前記回転ディスクに対する摩擦力を前記両処理ローラの一端部と他端部とで相違させ、前記両処理ローラに処理液を供給し、相互に逆方向の前記両処理ローラの回転運動を摩擦力の相違により前記回転ディスクの回転運動に変換しながら、前記回転ディスクの表面に前記それぞれの処理ローラの外周面を滑らせて前記回転ディスクの表面を前記両処理ローラにより処理することを特徴とする回転ディスクの表面処理方法。

IPC (3件)：

B08B 7/04 ,  B08B 1/04 ,  H01L 21/304 341

FI (3件)：

B08B 7/04 A ,  B08B 1/04 ,  H01L 21/304 341 B

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭60-143634
  
• 特開昭60-143634