特許

J-GLOBAL ID：200903065548367514

レジスト材料、およびその製造法ならびに画像形成法

発明者： 伊藤 信義 ,  福田 博行 ,  中島 芳訓
出願人/特許権者： 名古屋市
代理人 (1件)： 寺田 仁計
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-350920
公開番号（公開出願番号）：特開平7-196755
出願日： 1993年12月28日
公開日（公表日）： 1995年08月01日
要約：

【要約】【目的】現像液を変えることによってポジ型にもなり、ネガ型にもなるレジスト材料は、1種類のマスクでポジ、ネガ2種類の画像を得ることが可能になるし、その工程も単純化されて省資源、省エネルギーにつながる。【構成】ホルミル化ノボラック樹脂を溶解させたメチルセロソルブアセテート溶液をシリコンウエハー上に塗布し乾燥させることによってレジスト膜が形成されるので、その膜面上にマスクを通してデ<SB><HAN>イ</SB></HAN>ープUVを照射し、その後テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド水溶液で現像すればポジ型画像が得られる。また、クロロホルムートリクロロエチレンで現像すればネガ型画像が得られる。また、レジスト膜の剥離も全面露光すればアルカリ水溶液で可能になる。

請求項（抜粋）：

一般式【化1】式中の R1:H:o-CH3,m-CH3,p-CH3:p-C(CH3)3n :2以上で表されるホルミル化ノボラック樹脂を主成分とするレジスト材料。

IPC (5件)：

C08G 8/32 NBN ,  C08G 10/04 ,  G03F 7/038 505 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/312