洗浄装置、洗浄方法及び基板

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴木喜三郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-068919
公開番号（公開出願番号）：特開平11-319734
出願日： 1999年03月15日
公開日（公表日）： 1999年11月24日
要約：

【要約】【課題】基板の洗浄を均一にかつ効率的に行うことができ、基板の再汚染を効果的に防止でき、汚染除去作業の回数を減らすことができ、たとえ汚染除去作業を行う場合でも容易に汚染除去作業を行うことができる優れた洗浄装置を提供する。【解決手段】洗浄槽11の底部にある洗浄液供給口16から洗浄液2を洗浄槽11に供給して、互いに並列して配置された複数の基板4を洗浄するための洗浄装置10において、洗浄液供給口16と底部と壁部とが滑らかにつながっているように構成した。

請求項（抜粋）：

洗浄槽の底部にある洗浄液供給口から洗浄液を洗浄槽に供給して、互いに並列して配置された複数の基板を洗浄するための洗浄装置において、洗浄液供給口と底部とが滑らかにつながっていることを特徴とする洗浄装置。

IPC (2件)：

B08B 3/04 , H01L 21/304 642

FI (2件)：

B08B 3/04 Z , H01L 21/304 642 A

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