特許

J-GLOBAL ID：200903065558358289

剥離装置

発明者： 竹内 寧 ,  渡辺 督
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 山下 穣平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-145122
公開番号（公開出願番号）：特開2000-335804
出願日： 1999年05月25日
公開日（公表日）： 2000年12月05日
要約：

【要約】【課題】 分離爪を回転体に長期間摺接させておくと、分離爪と接している回転体の表面は摩耗して傷痕が付いてしまい、この削れた箇所で画像形成不良や、定着不良が発生する。【解決手段】 分離爪の表面上に中間層を介して水素化アモルファス炭素膜もしくはダイヤモンド状炭素膜、ダイヤモンド膜、または硬質炭素膜を気相合成法で形成したことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

回転体の回転表面の移動方向と直交する方向に一列に配置され、前記回転体を通過した転写材を、回転体から剥離させるためにそれぞれの先端を前記回転体の表面に摺接された複数の剥離爪を有する剥離装置において、前記剥離爪の表面上に設けられた、Si、B、周期律表の4A族(Ti、Zr、Hf)、5A族(V、Nb、Ta)及び6A族(Cr、Mo、W)の金属からなる群より選択された元素、前記元素の酸化物、炭化物、窒化物、炭窒化物、炭酸化物または炭酸窒化物、Bを除く前記元素の硼化物または硼窒化物、前記元素の複数を含む化合物、またはこれらの物質の複数からなる混合物で構成された中間層と、この中間層上に設けられた、水素化アモルファス炭素膜、ダイヤモンド状炭素膜、ダイヤモンド膜、または硬質炭素膜からなる潤滑保護膜とを具備することを特徴とする剥離装置。

IPC (3件)：

B65H 29/56 ,  G03G 15/14 101 ,  G03G 15/20 106

FI (3件)：

B65H 29/56 ,  G03G 15/14 101 A ,  G03G 15/20 106

Fターム (9件)：

2H032DA12 ,  2H033AA16 ,  2H033BA07 ,  2H033BA16 ,  2H033BA19 ,  3F053AA21 ,  3F053LA02 ,  3F053LA07 ,  3F053LB03