特許

J-GLOBAL ID：200903065567250415

皮膚表面解析システム及び皮膚表面解析方法

発明者： 松江 浩二 ,  林 照次 ,  三谷 光正
出願人/特許権者： 鐘紡株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 晴敏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-358394
公開番号（公開出願番号）：特開平6-189942
出願日： 1992年12月25日
公開日（公表日）： 1994年07月12日
要約：

【要約】【目的】 皮膚表面におけるしわやキメの視覚的粗さ、及び皮膚化粧料が持つしわ・キメの隠蔽効果を客観的に数値化可能とする。【構成】 皮膚表面解析システムは明暗強調撮像装置1を備えており、サンプル皮膚2表面の微細明暗分布が強調された二次元サンプル画像を撮像する。イメージプロセッサ8は、二次元サンプル画像を加工し、一次元明暗プロフィルを抽出する。ホストコンピュータ9は、一次元明暗プロフィルに含まれる明暗ピークデータを演算処理し、サンプル皮膚2表面の凹凸に相関する特性値を算出する。この特性値としては、例えば明暗ピーク間隔や明暗ピーク粗さが挙げられる。さらにこれらの特性値に基いてしわやキメの尺度となる「皮膚の凹凸の視覚的粗さ」を算出する。又、化粧料塗布後と塗布前の「視覚的粗さ」の比からしわ・キメの隠蔽効果を評価する。

請求項（抜粋）：

サンプル皮膚表面の微細明暗分布が強調された二次元サンプル画像を撮像する明暗強調撮像装置と、該二次元サンプル画像を加工処理し、一次元明暗プロファイルを抽出する為の画像処理装置と、該一次元明暗プロファイルに含まれる明暗ピークデータを演算処理しサンプル皮膚表面の凹凸に相関する特性値を算出する演算装置とからなる皮膚表面解析システム。