特許
J-GLOBAL ID：200903065567850927
荷電粒子線転写装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-325031
公開番号（公開出願番号）：特開平7-183193
出願日： 1993年12月22日
公開日（公表日）： 1995年07月21日
要約：
【要約】【目的】高精度及び高スループットを実現する荷電粒子線転写装置を提供する。【構成】マスク8を透過した荷電粒子線を試料14上に投影する、光軸方向に配設された一対の投影レンズ10,11と、試料14とマスク8との間を一対の投影レンズ10,11の投影比で案分した位置に配設されたアパーチャー12とを有する荷電粒子線転写装置において、一対の投影レンズ10,11のうち、マスク8側の投影レンズの主面をマスク8とアパーチャー12との中間位置からマスス側に所定量ずらして配設し、試料14側の投影レンズの主面をアパーチャー12と試料14との中間位置から試料14側に前記所定量に前記投影比を積算した量だけずらして配設している。
請求項（抜粋）：
荷電粒子線源から射出した荷電粒子線を転写パターンを有したマスクに順次照射する照射光学系と、前記マスクを透過した荷電粒子線を試料上に投影する、光軸方向に配設された一対の投影レンズと、前記試料と前記マスクとの間を前記一対の投影レンズの投影比で案分した位置に配設されたアパーチャーと、を具備する荷電粒子線転写装置において、前記一対の投影レンズのうち、前記マスク側の投影レンズの主面を前記マスクと前記アパーチャーとの中間位置から前記マスク側に所定量ずらして配設し、前記試料側の投影レンズの主面を前記アパーチャーと前記試料との中間位置から前記試料側に前記所定量に前記投影比を積算した量だけずらして配設したことを特徴とする荷電粒子線転写装置。
FI (3件)：
H01L 21/30 541 A
, H01L 21/30 541 C
, H01L 21/30 541 S
