特許

J-GLOBAL ID：200903065570065092

Al系スパッタリング用タ-ゲット材およびその製造方法

発明者： 高島 洋 ,  村田 英夫
出願人/特許権者： 日立金属株式会社
代理人 (1件)： 大場 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-320746
公開番号（公開出願番号）：特開平10-147860
出願日： 1996年11月15日
公開日（公表日）： 1998年06月02日
要約：

【要約】【課題】 希土類元素を添加したAl系ターゲット材においてスプラッシュの原因となる微小な空隙の発生を防止したターゲット材およびその製造方法を提供する。【解決手段】 あらかじめ調整されたAlと希土類元素(Sm,Nd,Y等)の化合物粒子をAlマトリックス中に分散した組織とする。特に圧延等の塑性加工を施した0.3m2以上の大スパッタ面積のターゲットのスプラッシュ発生を抑制する。ターゲットは、体積平均径が150μm以下であるAl粉末と、体積平均径が50μm以下であるAlと希土類元素との化合物の粉末を混合し、400°C以上600°C以下で加圧焼結後、圧延することにより得ることができる。

請求項（抜粋）：

あらかじめ調整されたAlと希土類元素との化合物粒子をAlマトリックス中に分散したことを特徴とするAl系スパッタリング用ターゲット材。

IPC (3件)：

C23C 14/34 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/285

FI (3件)：

C23C 14/34 ,  H01L 21/203 S ,  H01L 21/285 S