特許
J-GLOBAL ID：200903065572133338
基板端縁洗浄装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-360175
公開番号（公開出願番号）：特開平5-185012
出願日： 1991年12月27日
公開日（公表日）： 1993年07月27日
要約：
【要約】【目的】 洗浄液の供給量を少なくして角型基板の不要薄膜を良好に洗浄できるようにする。【構成】 回転塗布によって表面に薄膜が形成された角型基板1を鉛直方向の軸芯P周りで回転可能に載置保持する基板保持手段2を設け、その基板保持手段2に、角型基板1の裏面側の角部側にのみ洗浄液を吐出して不要薄膜を洗浄する洗浄液ノズル3を、角型基板1と一体回転自在に設け、角型基板1の裏面側の角部側に付着した不要薄膜を洗浄除去する。
請求項（抜粋）：
回転塗布によって表面に薄膜が形成された角型基板を鉛直方向の軸芯周りで回転可能に載置保持する基板保持手段と、その基板保持手段によって保持された前記角型基板と一体回転自在に設けられて、前記角型基板の裏面側の角部側にのみ洗浄液を吐出して不要薄膜を洗浄除去する洗浄液ノズルと、を備えた基板端縁洗浄装置。
IPC (4件)：
B05C 11/08
, B05C 9/12
, H01L 21/027
, H01L 21/304 341
