特許
J-GLOBAL ID:200903065579293152

液体エッチング終点検出および処理測定学

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 井ノ口 壽
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-504774
公開番号(公開出願番号):特表2002-505751
出願日: 1998年06月17日
公開日(公表日): 2002年02月19日
要約:
【要約】半導体処理終点検出システムは比較的広い波長域の光を用いて処理対象の半導体ウェーハで反射させる。比較的狭い波長域をこの広い反射波長域内でモニタすることにより、処理の終点を検出することができる。多数の波長域で検出された光強度の関数の表示を生成する。これらの表示によって、処理の終点が決定される。
請求項(抜粋):
光源で光を発生させるステップと、 光源からの光を半導体ウェーハで反射させるステップと、 半導体処理中に半導体ウェーハから反射された光を検出するステップと、 検出された光から生成した強度表示において傾斜変化を確認することにより、半導体処理の終点を決定するステップとからなる方法。
IPC (3件):
G01B 11/06 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/66
FI (3件):
G01B 11/06 G ,  H01L 21/66 P ,  H01L 21/306 U

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