特許
J-GLOBAL ID：200903065591107860
レジストパターンの形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-346576
公開番号（公開出願番号）：特開平7-181686
出願日： 1993年12月22日
公開日（公表日）： 1995年07月21日
要約：
【要約】【目的】 フォトマスクに異物が付着することによるレジストパターンの欠陥を防止できるレジストパターンの形成方法を提供する。【構成】 マスクパターン12が形成された第1のフォトマスク1を用いた露光を行いレジスト6にパターン像61を結像させる第1の露光を行う。第1のフォトマスク1と同様のマスクパターン22が形成された第2のフォトマスク2を用いた露光を、この露光でレジスト6に形成されるパターン像62がパターン像61と同方向に整合する状態で行う。これによって、露光光が同一箇所に複数回照射されるように露光が行われ、その後レジスト6を現像処理することによって、フォトマスクに異物が付着することによるパターン欠陥を防止したレジストパターンが形成される。
請求項（抜粋）：
複数のフォトマスクを用いてレジスト上にパターンの重ね合わせ露光を行った後、前記レジストを現像処理することによってレジストパターンを形成する方法であって、前記フォトマスクは、それぞれ同様のマスクパターンが形成されたものであり、前記重ね合わせ露光は、各フォトマスクによるそれぞれの露光で前記レジストに形成されるパターン像が当該レジスト上で同方向に整合する状態で行われることを特徴とするレジストパターンの形成方法。
IPC (3件)：
G03F 7/20 521
, G03F 1/08
, H01L 21/027
