特許
J-GLOBAL ID:200903065601293463

被測定物の表面測定方法及び表面測定装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-296052
公開番号(公開出願番号):特開平5-133729
出願日: 1991年11月12日
公開日(公表日): 1993年05月28日
要約:
【要約】【目的】 方向性を持たない被測定表面の広い面の状態を、非接触で測定する表面測定方法及び表面測定装置を提供する。【構成】 単一周波数分布を有する明暗模様の光学パターンを被測定表面に照射することにより、該被測定表面からの反射映像を面撮像し、該反射映像の画像データを2次元フーリエ変換することにより、該反射映像の空間周波数スペクトルを求め、該空間周波数スペクトルを等周波数毎に周回積分して、反射映像の特徴を周波数に対するスペクトル強度の1次元分布特性に変換することにより、該被測定表面の特徴抽出を行うようにした。又、上記1次元分布特性を所定周波数範囲毎に積算し、該所定周波数範囲毎の積算スペクトル強度を求めることにより、被測定表面の特徴抽出を行うようにした。
請求項(抜粋):
単一周波数分布を有する明暗模様の光学パターンを被測定表面に照射することにより、該被測定表面からの反射映像を面撮像し、該反射映像の画像データを2次元フーリエ変換することにより、該反射映像の空間周波数スペクトルを求め、該空間周波数スペクトルを等周波数毎に周回積分して、反射映像の特徴を周波数に対するスペクトル強度の1次元分布特性に変換することにより、該被測定表面の特徴抽出を行う被測定物の表面測定方法。

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