特許
J-GLOBAL ID：200903065601886766
二酸化ケイ素被膜の製造方法および装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡邉 勇 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-274911
公開番号（公開出願番号）：特開平7-101715
出願日： 1993年10月06日
公開日（公表日）： 1995年04月18日
要約：
【要約】【目的】 処理液の使用量を低減するとともに保守管理性並びに操作性を向上させ、基材表面に均一な厚さの二酸化ケイ素被膜を形成することができる方法及び装置を提供する。【構成】 二酸化ケイ素の過飽和となったケイフッ化水素酸水溶液を含む処理液(7)中に、基材(8)の被処理表面が竪方向に添うように基材(8)を浸漬、配置した状態で、基材(8)と処理液(7)との少なくともいずれか一方を上下方向に振動させながら二酸化ケイ素被膜の製造を行う。
請求項（抜粋）：
二酸化ケイ素が過飽和状態となったケイフッ化水素酸水溶液を含む処理液と基材とを接触させて基材表面に二酸化ケイ素被膜を析出させる二酸化ケイ素被膜の製造方法において、上記処理液中に、基材の被処理表面が竪方向に添うように上記基材を浸漬、配置した状態で、該基材と上記処理液との少なくともいずれか一方を上下方向に振動させながら二酸化ケイ素被膜の製造を行うことを特徴とする二酸化ケイ素被膜の製造方法。
IPC (3件)：
C01B 33/12
, C23C 18/00
, H01L 21/208
