特許

J-GLOBAL ID：200903065643341379

被膜形成方法

発明者： 中野 中也 ,  三竹 均
出願人/特許権者： コニカ株式会社
代理人 (1件)： 宇高 克己
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-028850
公開番号（公開出願番号）：特開平8-238452
出願日： 1988年10月21日
公開日（公表日）： 1996年09月17日
要約：

【要約】【課題】 複数の被処理体の被膜形成処理を連続して行うことが出来、かつ、被膜欠陥も防止できる被膜形成方法を提供することである。【解決手段】 被膜形成手段とドラム状基体とを相対的に移動させることにより、ドラム状基体を被膜形成処理する感光体の被膜形成方法において、被膜形成処理前に被膜形成手段の下側でドラム状基体を積み重ね、積み重ねたドラム状基体を前記被膜形成手段に対して相対的に移動させることによりこのドラム状基体を被膜形成処理し、前記被膜形成処理後も、ドラム状基体を停止させることなく移動させる被膜形成方法。

請求項（抜粋）：

被膜形成手段とドラム状基体とを相対的に移動させることにより、ドラム状基体を被膜形成処理する感光体の被膜形成方法において、被膜形成処理前に被膜形成手段の下側でドラム状基体を積み重ね、積み重ねたドラム状基体を前記被膜形成手段に対して相対的に移動させることによりこのドラム状基体を被膜形成処理し、前記被膜形成処理後も、ドラム状基体を停止させることなく移動させることを特徴とする感光体の被膜形成方法。

IPC (5件)：

B05D 1/40 ,  B05C 13/02 ,  B05D 1/26 ,  G03G 5/05 102 ,  B05C 3/00

FI (5件)：

B05D 1/40 Z ,  B05C 13/02 ,  B05D 1/26 Z ,  G03G 5/05 102 ,  B05C 3/00